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导读：补上最后的技术拼图，国产光刻机突破核心技术，要跟ASML说再见了

众所周知，在老美多次修改芯片规则以后，就让芯片的重要性逐渐凸显出来，如今整个科技领域的发展几乎都离不开半导体芯片的支持，而我们要想不被人卡脖子发展，那么就必须要打造出属于我们自己的国产芯片供应链体系才行；在经历了华为事件以后，国内就开始用举国之力去发展半导体芯片产业！

ASML光刻机被限制出货

要想打造出属于我们自己的国产芯片供应链体系，那么首先我们就要解决光刻机的难题才行，别看一颗小小的芯片只有指甲盖大小，但是在芯片的内部却集成了上亿个晶体管线路，而想要完成这些线路的部署，那么也只有先进的光刻机才能完成；目前全球领先的光刻机都被荷兰ASML一家所垄断，在老美的限制下，就算是我们有钱也无法从ASML手中买到最先进的EUV光刻机！

补上最后的技术拼图，国产光刻机突破核心技术

在这种情况下，我们也只剩下了自主研发光刻机一条路可走，很快国内的中科院、清华大学等机构都展开了对光刻机等卡脖子技术的研发，眼看着中国在光刻机领域快速的发展起来，ASML则表示：就算是公开光刻机的图纸，中国也无法造出光刻机来，因为一台先进的EUV光刻机含有10万多个零部件；但尽管如此，也无法阻挡国内研发光刻机的步伐，而且我们已经补上了最后的技术拼图，国产光刻机已经突破核心技术！

国内掀起自主制造光刻机的浪潮

在无法依靠ASML光刻机的前提下，国内的众多科技企业都开始抱团发展，并成立光刻机等卡脖子技术的攻关小组，而且最近在两年在国内半导体市场上，我们还逐渐掀起了一股自主制造光刻机和芯片的浪潮，我们相信只要国内科技企业肯努力研发，那么一定会取得突破！

随着国内科技企业的不断研发和突破，我们已经在光刻机的核心技术光源、物镜、双工件台等领域都取得了突破，而现在又传来消息，我们在光刻机最核心的浸润系统领域也突破了关键的核心技术，国内厂家启尔机电已经攻破了浸润系统的关键技术，可以实现误差正负值为0.001度液体温度的高精度控制，这一水平显然已经达到了国际顶尖水准，对此也有外媒表示：这是要跟ASML说再见了！

如今光刻机所拥有的核心技术光源、物镜、双工件台，以及浸润系统我们都已经取得了突破，这也意味着我们已经补齐了光刻机的最后一块技术拼图，有了浸润系统以后，我们就能打造出浸润式光刻机，这对于国产半导体芯片产业的发展来说，意义也是重大的，尽管说我们在短时间里还无法突破最先进的EUV光刻机的技术，但是有了国产光刻机我们能实现28nm成熟工艺芯片的生产，那么在汽车等工业芯片领域我们也就不会在被卡脖子了，不知道对此你是怎么看的呢？