ASML最初也只是一家小公司，在当时的光刻机市场，ASML几乎没有任何参与感，连续迭代了几款产品，都没能打开市场，赢得客户的信任。
后来发展了十多年，才在光刻机市场站稳脚跟，后来由于在浸润式DUV光刻机上获得先机，算是进入了光刻机市场的第一梯队。
直到ASML率先突破了EUV光刻机，才算是奠定了ASML的龙头地位，所以我们看到，近些年来，ASML开始风头无两。
不过花无百日红，用外媒的话说，ASML的时代其实正在宣告结束。
一直关注芯片产业的朋友应该已经注意到了，各大芯片厂家，都开始增加对现有工艺的使用时间，不再积极地将自家芯片大规模的升级到最新工艺。
以苹果为例，今年发布的新机，将会继续采用A15芯片，只有Pro版本才会用到A16，不过A16也不会升级工艺，依然是5纳米技术。
此外，根据最新消息显示，苹果还在台积电进行了大规模的砍单，据悉比例达到了10%，这意味着至少会有千万级别的芯片被砍掉。
而且之前苹果还发布了M1 Ultra，这颗芯片也没有升级工艺。
所以我们看到，芯片厂家不仅在降低订单量，而且也不愿意升级工艺，这都会导致对EUV光刻机的依赖降低，进而减少采购量。
除了我们常见的逻辑芯片，近些年来存储芯片也开始逐步利用到EUV光刻机，这涉及到3D NAND闪存和DRAM内存芯片。
然而我们大陆中企成功通过技术手段，实现了不用EUV光刻机，也能制造出性能优异的产品。
毫无疑问，这给了业界更多的参考，毕竟EUV光刻机动辄数十亿的成本，能不用还是不用为妙。
此外，业界还在推动NIL光刻机技术的发展，该技术同样可以实现先进工艺，目前已经推进到5纳米，但是成本更低，耗电量也更少。
这些都能极大地减少芯片厂的成本，要知道，如果以7纳米芯片的晶圆为基准，那么5纳米晶圆的成本是7纳米的两倍，3纳米晶圆的成本则是7纳米的四倍。
所以我们就看到，尽管包括台积电、三星等都一直宣称3纳米实现了突破，但是市场上却迟迟看不到一颗3纳米芯片。
不仅如此，对于未来的发展，台积电方面已经表示，3纳米将会是一个长期被采用的工艺，为此台积电开发了5个版本的3纳米技术。
这说明，虽然现在各大芯片企业不愿意升级到3纳米，即便以后升级到3纳米了，那么也将会长期的维持在3纳米。
也就是说，ASML的下一代支持2纳米的EUV光刻机，销量将会并不乐观。
实际上ASML方面也承认，到2025年，ASML的产能将会大于市场需求，也就是说，市场上对EUV光刻机的需求正在走到极限。
正是因此，近段时间ASML还遭到了金融机构的做空，毫无疑问是对ASML的未来并不看好。
而另外一个方面，是我们国产的光刻机也在快速发展，根据一位业内人士表示，国内厂商目前都开始愿意采用国内供应链的设备，因为担心供应的连续性问题。
根据多方的消息显示，我们国产的28纳米光刻机已经不远了，这意味着我们国内厂商所需要的大部分光刻机，都可以国内供应。
因为我们国内的芯片工厂，大部分工艺还是28纳米及以上，像22纳米、14纳米的订单还是占据少数。
所以总结来看，在第二代EUV光刻机上，对比第一代EUV光刻机，ASML的订单数量骤降。
在第一代EUV光刻机上，已经主要是存量市场，各大芯片厂的扩产已经接近尾声，还有NIL光刻机在不断抢占市场，在存储领域还实现了不依赖EUV光刻机的技术。
而在DUV光刻机上，我们国内光刻机在快速推进，ASML的空间在快速被挤压。
所以说ASML的时代正在宣告结束，对此大家怎么看呢？欢迎留言、点赞、转发。
