中国可能“弯道超车”,绕过光刻机生产出先进芯片吗? 生产先进芯片之所以困难,在于缺少EUV光刻机。如果说光刻机是“工业皇冠上的明珠”,那么EUV光刻机绝对是最亮的那一颗。因为它的一些关键的零部件都是汇集了各国最顶级的工业技术。比如光源设备来自美国、镜头来自德国蔡司、三星,台积电和英特尔提供了分配技术等等。也正因为如此,有人说制造EUV光刻机的难度,甚至超过了制造航母。 那么我们有没有可能借助新技术弯道超车,不需要光刻机也能造出高端芯片呢?我国科研机构在相关领域的尝试从未停止过。 就像是石墨烯晶圆,作为碳基芯片材料,与传统的硅基芯片相比,稳定性和性能都有很大的提升。而中科院已经在石墨烯晶圆领域取得突破,研发出8英寸石墨烯晶圆。还有北大的科研团队,在中科院8英寸石墨烯晶圆的基础上,还制作出了5纳米工艺的碳晶技术,堪称“中国式的芯片奇迹”。 由此可见,我们通过新技术“弯道超车”,完全有可能。曾经我们在很多方面都落后于人,可经过几十年的不懈努力,如今在众多领域取得世界领先。要不了10年,或许3、5年,芯片卡脖子的问题一定会迎刃而解! 不知道大家怎么看呢?
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